成绎半导体申请基于开关阱电容的带宽改进方法及电路专利,提高目标CMOS的信号带宽
创始人
2026-03-14 10:22:40

国家知识产权局信息显示,成绎半导体(苏州)有限公司申请一项名为“基于开关阱电容的带宽改进方法及电路”的专利,公开号CN121643706A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明公开了一种基于开关阱电容的带宽改进方法及电路,所述方法包括:获得目标CMOS中MOS管的深N阱的最高耐压值;基于最高耐压值,确定施加到对应隔离端的高压信号;其中,高压信号用于在深N阱处形成的对地PN结上产生反向偏置电压;利用高压控制模块产生高压信号,并将高压信号接入隔离端,以通过降低MOS管的阱电容提高目标CMOS的信号带宽。本发明能够减小阱电容,进而提高目标CMOS开关的信号带宽。

天眼查资料显示,成绎半导体(苏州)有限公司,成立于2021年,位于苏州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本514.035万人民币。通过天眼查大数据分析,成绎半导体(苏州)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目1次,专利信息12条,此外企业还拥有行政许可5个。

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来源:市场资讯

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